NGR은 독자적인 Concept을 바탕으로 반도체검사장치를 개발하기 위해 2000년에 설립되었습니다.
반도체 제조는, 지금 45nm에서 32nm시대로의 지속적인 개발노력이 진행되고 있습니다. 그러나, 지금까지 세계에서 널리 사용되어 온 Optical base의 결함검사장치가 물리적인 검출한계에 이르고 있는 상황에서 Design, OPC, Mask, Scanner로 계속되는 프로세스상의 제품수율확보가 최대의 관심사로 부각되고 있습니다. 이러한 배경으로 인해, NGR은 설립 이래, Optical base의 결함검사장치가 바뀌어져야만 한다는 전제하에, 특허 취득된 고속화상계측기술, 전자beam기술을 사용하여 Wafer 또는 Mask상의 Nano의 결함을 이차원상에서 고속으로 검출할 수 있는 제품을 제조하였으며, World Market에서 최고가 되기 위해 노력할 것입니다.